吉致電子氧化鋁精拋液（CMP Slurry）/納米氧化鋁懸浮液采用高純度分級(jí)氧化鋁微粉為原料，經(jīng)特殊表面改性工藝處理，通過(guò)科學(xué)配方精密配制而成。具有以下顯著優(yōu)勢(shì)：

適用于化學(xué)機(jī)械平面研磨工藝CMP場(chǎng)景---鋁合金、不銹鋼、鎢鋼、鑄鐵件等金屬材質(zhì);以及藍(lán)寶石、碳化硅襯底、光學(xué)玻璃、精密陶瓷基板等半導(dǎo)體襯底材料的精密拋光加工。

氧化鋁精拋液性能優(yōu)勢(shì)突出：

• 獨(dú)特的抗結(jié)晶配方，確保拋光過(guò)程穩(wěn)定

• 對(duì)拋光設(shè)備無(wú)腐蝕，維護(hù)簡(jiǎn)便

• 殘留物易清洗，提高生產(chǎn)效率

  
  

氧化鋁精拋液效果卓越：

• 創(chuàng)新的化學(xué)機(jī)械協(xié)同作用機(jī)制，顯著提升拋光效率

• 優(yōu)化的表面處理工藝，確保拋光面質(zhì)量達(dá)到鏡面級(jí)標(biāo)準(zhǔn)

氧化鋁磨料特性優(yōu)異：

• 類球形氧化鋁磨料粒徑分布均勻

• 特殊表面處理工藝防止顆粒團(tuán)聚

• 有效降低表面劃傷風(fēng)險(xiǎn)，提高產(chǎn)品良率

• 在拋光效率、表面質(zhì)量和工藝穩(wěn)定性等方面氧化鋁拋光液具有明顯優(yōu)勢(shì)，是精密拋光領(lǐng)域的理想選擇。

吉致電子氧化鋁拋光液參數(shù)及磨料粒徑：1μm、3μm、9μm、15μm 納米氧化鋁拋光液：200nm、400nm、600nm、800nm專為金屬及半導(dǎo)體材料設(shè)計(jì)的高效CMP拋光解決方案

無(wú)錫吉致電子科技有限公司

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