吉致電子常見(jiàn)的CMP研磨液
CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液/研磨液slurry的主要成分包括:磨料
根據(jù)研磨拋光對(duì)象不同
吉致電子常見(jiàn)的CMP研磨液有:
?。?)氧化鋁研磨液:Al2O3研磨液 適用于大部分工件,拋磨速率快,減薄下尺寸強(qiáng),成本較金剛石低,可節(jié)省成本提高生產(chǎn)效率。
?。?)金剛石研磨液:金剛石研磨液高效、方便、無(wú)污染、不腐蝕。其中的金剛石晶粒硬度好,粒度均勻,對(duì)高硬質(zhì)材料磨削效果好。
?。?)藍(lán)寶石研磨液:Sapphire Slurry作為藍(lán)寶石襯底的研磨和減薄,液藍(lán)寶石A向拋光液/藍(lán)寶石C向拋光液利用聚晶金剛石的特性,在研磨拋光處理過(guò)程中可以保持高切削的效率,同時(shí)不易對(duì)工件之間產(chǎn)生嚴(yán)重劃傷。
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