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吉致電子常見(jiàn)的CMP研磨液

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2023-02-27 16:15【

  CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液/研磨液slurry的主要成分包括:磨料添加劑和分散液。添加劑的種類根據(jù)產(chǎn)品適用場(chǎng)景也有所不同,分金屬拋光液和非金屬拋光液。金屬CMP拋光液含:金屬絡(luò)合劑、腐蝕抑制劑等。非金屬CMP拋光液含:各種調(diào)節(jié)去除速率和選擇比的添加劑。

吉致電子研磨液 金剛石研磨液

  根據(jù)研磨拋光對(duì)象不同,拋光液/研磨液可分為銅拋光液鎢拋光液、硅拋光液和鈷拋光液等類別其中,銅拋光液和鎢拋光液主要用于邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片制造過(guò)程在10nm 及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)中,鈷將部分代替銅作為導(dǎo)線硅拋光液主要用于硅晶圓初步加工過(guò)程中。

吉致電子常見(jiàn)的CMP研磨液有:

 ?。?)氧化鋁研磨液:Al2O3研磨液 適用于大部分工件,拋磨速率快,減薄下尺寸強(qiáng),成本較金剛石低,可節(jié)省成本提高生產(chǎn)效率。

 ?。?)金剛石研磨液:金剛石研磨液高效、方便、無(wú)污染、不腐蝕。其中的金剛石晶粒硬度好,粒度均勻,對(duì)高硬質(zhì)材料磨削效果好。

 ?。?)藍(lán)寶石研磨液:Sapphire Slurry作為藍(lán)寶石襯底的研磨和減薄,液藍(lán)寶石A向拋光液/藍(lán)寶石C向拋光液利用聚晶金剛石的特性,在研磨拋光處理過(guò)程中可以保持高切削的效率,同時(shí)不易對(duì)工件之間產(chǎn)生嚴(yán)重劃傷。

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