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吉致電子拋光材料 源頭廠家
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[行業(yè)資訊]陶瓷基板CMP工藝:無(wú)蠟吸附墊技術(shù)解析與應(yīng)用優(yōu)勢(shì)[ 2025-03-28 16:03 ]
在半導(dǎo)體、LED、功率電子等領(lǐng)域,陶瓷基板因其優(yōu)異的導(dǎo)熱性、絕緣性和機(jī)械強(qiáng)度被廣泛應(yīng)用。化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是陶瓷基板表面精密加工的關(guān)鍵工藝,而傳統(tǒng)的蠟粘接固定方式存在污染、效率低、平整度受限等問(wèn)題。無(wú)蠟吸附墊技術(shù)作為新一代CMP固定方案,憑借其高精度、環(huán)保性和成本優(yōu)勢(shì),正逐步成為行業(yè)新標(biāo)準(zhǔn)。無(wú)蠟吸附墊技術(shù)原理無(wú)蠟吸附墊通過(guò)非接觸式固定技術(shù)取代傳統(tǒng)蠟粘接,主要采用以下兩種方式:一、真空吸附技術(shù)①采用多孔陶瓷或聚合物材料,通過(guò)真空負(fù)壓均勻吸附基板②適用于各類硬脆材料(如Al?O?、AlN、SiC等)③可調(diào)節(jié)吸附力,
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