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氟化鋇晶體拋光液 BaF2化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry|解決晶體霧化/亞表面損傷
產(chǎn)品名稱:氟化鋇拋光液/BaF2 CMP拋光液/光學(xué)晶體CMP拋光液
產(chǎn)品特點(diǎn):吉致電子氟化鋇(BaF?)CMP拋光液,紅外窗口/核探測(cè)專用光學(xué)級(jí)氟化鋇拋光液,解決晶體霧化/亞表面損傷,納米級(jí)低殘留拋光液適合高精度閃爍體/激光晶體表面處理。
氟化鋇晶體CMP拋光液·參數(shù)吉致電子|CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產(chǎn)品名稱:無劃痕氟化鋇拋光液|解決晶體霧化/亞表面損傷|光學(xué)晶體CMP化學(xué)機(jī)械拋光液
氟化鋇晶體CMP拋光液作用: 吉致電子專為氟化鋇晶體BaF2研發(fā)設(shè)計(jì)的化學(xué)機(jī)械拋光CMP拋光液,通過納米級(jí)磨料與化學(xué)添加劑協(xié)同作用,實(shí)現(xiàn)晶體表面超光滑、低損傷加工,滿足紅外光學(xué)、紫外窗口、核輻射探測(cè)等領(lǐng)域的高端需求。
吉致電子可提供各光學(xué)晶體/玻璃/紅外窗口CMP拋光液及解決方案
超精密拋光
表面粗糙度(Ra)≤ 0.5 nm,實(shí)現(xiàn)原子級(jí)平整度。
去除率可控(0.1-1.5 μm/min),適配不同工藝階段。
低缺陷工藝
納米級(jí)二氧化硅/氧化鈰復(fù)合磨料,減少劃痕和亞表面損傷。
pH值穩(wěn)定(8.0-10.5),避免晶體腐蝕或水解。
高材料兼容性
優(yōu)化配方適配氟化鋇晶體特性,避免氟元素流失和表面霧化。
環(huán)保安全
無重金屬、低VOC排放,符合RoHS 2.0標(biāo)準(zhǔn)。
廢液易處理,降低環(huán)保成本。
*可以依客戶不同工藝要求,提供定制化服務(wù)
*提供全套解決方案,及免費(fèi)安排工程師上門服務(wù)
通過優(yōu)化CMP工藝參數(shù),氟化鋇晶體可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)超光滑表面,滿足高端光學(xué)和輻射探測(cè)器的嚴(yán)苛要求。無錫吉致電子提供專業(yè)的氟化鋇CMP拋光解決方案,如需進(jìn)一步技術(shù)咨詢,歡迎聯(lián)系我們的工程師團(tuán)隊(duì)!
為什么選擇吉致電子?氟化鋇晶體拋光液廠家直銷|BaF2化學(xué)機(jī)械拋光液,納米級(jí),低殘留,支持定制
①10年光學(xué)材料CMP經(jīng)驗(yàn),服務(wù)全球100+科研/工業(yè)客戶。
②免費(fèi)工藝調(diào)試,提供技術(shù)文檔與售后支持。
③拋光方案及配方靈活定制,根據(jù)客戶需求調(diào)整磨料濃度、添加劑配方。
吉致電子氟化鋇拋光液儲(chǔ)存方法:
通風(fēng),陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲(chǔ)存,防止陽光直射及凍結(jié),零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
吉致電子的光學(xué)晶體CMP拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。
本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
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