藍寶石晶圓怎么研磨--sapphire wafer拋光液實現(xiàn)高平坦度表面
吉致電子藍寶石研磨液sapphire slurry又稱為藍寶石拋光液。專業(yè)用于藍寶石襯底、外延片、窗口、藍寶石wafer的減薄和拋光。藍寶石拋光液由純度高的磨粒、復合分散劑和分散介質組成,具有穩(wěn)定性高、不沉降不易結晶、拋光速度快的優(yōu)點。
通過CMP工藝搭配藍寶石專用slurry可實現(xiàn)藍寶石晶圓的高平坦度加工,吉致電子拋光液利用納米SiO2粒子研磨表面,不會對加工件造成物理損傷,達到精密加工。藍寶石CMP拋光液的低金屬的成分,可以有效防止產(chǎn)品受到污染。
藍寶石研磨液在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產(chǎn)生劃傷。吉致電子拋光液產(chǎn)品磨削力強,通用范圍廣,顆粒均勻性好可以應用在藍寶石襯底的研磨和減薄、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。
找對廠家,找對拋光液產(chǎn)品很重要,吉致電子助您解決拋光難題!
本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng),版權歸無錫吉致電子科技,未經(jīng)允許,不得轉載,轉載需附出處及原文鏈接。http://www.simplybyfaithhousing.com/
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系電話:17706168670
郵編:214000
地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
相關資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- 第三代半導體--碳化硅和氮化鎵的區(qū)別
- 藍寶石襯底拋光液--納米氧化鋁拋光液/研磨液
- 半導體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別
- 打磨碳化硅需要哪種拋光墊?
- 二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同
- 碳化硅Sic襯底加工流程有哪些
- 半導體拋光---硅片拋光墊怎么選
- 藍寶石拋光用什么拋光液
- 鎢鋼用什么研磨液和拋光液
- CMP常用化學拋光液有哪些