吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

吉致電子·鉬片拋光液·金屬鉬cmp拋光液
產(chǎn)品名稱：鉬拋光液/金屬鉬拋光/激光反射鏡拋光液/CMP研磨液/鏡面拋光液
產(chǎn)品特點(diǎn)：吉致電子金屬鉬拋光液可用于鋼鐵、化工、電子、航天、光學(xué)領(lǐng)域的鉬片CMP加工，達(dá)到優(yōu)良的表面平坦度，拋光速率快、良率高、表面均一無缺陷。[查看]

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吉致電子·合金銅拋光液·金屬拋光液
產(chǎn)品名稱：銅拋光液/合金銅拋光液/銅表面拋光液/金屬研磨液/鏡面拋光液
產(chǎn)品特點(diǎn)：適用于平面形態(tài)的銅、合金銅工件的鏡面拋光，CMP拋光工序可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化。[查看]

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吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導(dǎo)體晶圓拋光
產(chǎn)品名稱：碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
產(chǎn)品特點(diǎn)：Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國產(chǎn)替代[查看]

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產(chǎn)品名稱：氧化層拋光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry
磨料類型：納米SiO2
磨料粒徑：納米SiO2[查看]

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產(chǎn)品名稱：碳酸CMP研磨液/DNA芯片slurry/水凝膠拋光液
磨料類型：碳酸鈣拋光液slurry
磨料粒徑：碳酸鈣微粉[查看]

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產(chǎn)品名稱：氧化層拋光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料類型：半導(dǎo)體cmp拋光液slurry
磨料粒徑：納米級SiO2[查看]

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產(chǎn)品名稱：藍(lán)寶石拋光液/藍(lán)寶石A向拋光液/藍(lán)寶石C向拋光液
磨料類型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑：專利化學(xué)配方/可定制[查看]

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產(chǎn)品名稱：陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液
磨料類型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑：專利化學(xué)配方/可定制[查看]

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產(chǎn)品名稱：類多晶金剛石拋光液/類多晶金剛石研磨液/類多晶鉆石拋光液
磨料類型：優(yōu)質(zhì)人造金剛石
磨料規(guī)格：類多晶金剛石微粉
磨料粒徑：全粒徑可定制[查看]

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產(chǎn)品名稱：多晶金剛石拋光液/多晶鉆石研磨液/聚晶金剛石研磨液
磨料類型：優(yōu)質(zhì)人造金剛石
磨料規(guī)格：多晶金剛石微粉
磨料粒徑：全粒徑可定制[查看]

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產(chǎn)品名稱：單晶金剛石拋光液/單晶鉆石研磨液/單晶金剛石懸浮液
磨料類型：優(yōu)質(zhì)人造金剛石
磨料規(guī)格：單晶金剛石微粉
磨料粒徑：全粒徑可定制[查看]

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產(chǎn)品名稱：氧化鈰拋光液/氧化鈰研磨液/稀土拋光液
磨料類型：氧化鈰微粉/高純納米氧化鈰
磨料粒徑：全粒徑可定制[查看]

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吉致電子拋光液/研磨液/精拋液
產(chǎn)品名稱：氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液/氧化硅懸浮液/硅拋光液/二氧化硅拋光液
磨料類型：高純納米氧化硅微粒
磨料粒徑：10-150nm（最高可達(dá)150nm）
產(chǎn)品特點(diǎn)：吉致氧化硅拋光液懸浮性佳，化學(xué)性能穩(wěn)定，拋光工件效率高、工時短、無劃傷。[查看]

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吉致電子拋光液/研磨液
產(chǎn)品名稱：氧化鋁拋光液/氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液/氧化鋁懸浮液
磨料類型：氧化鋁微粉/高純納米氧化鋁
磨料粒徑：全粒徑可定制
產(chǎn)品特點(diǎn)：吉致氧化鋁拋光液分散性好、乳液均一，提升拋光速率，降低微劃傷的概率，提高拋光精度。[查看]

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吉致電子拋光液/研磨液
產(chǎn)品名稱：金剛石拋光液/金剛石研磨液/金剛石懸浮液/鉆石拋光液
磨料類型：金剛石微粉
磨料規(guī)格：單晶金剛石/多晶金剛石/納米金剛石
磨料粒徑：可定制
產(chǎn)品特點(diǎn)：吉致金剛石研磨液切削力好，適用于光學(xué)晶體、SiC表面拋光、超硬陶瓷和金屬表面[查看]

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